उच्च प्रदर्शन फोटो-मास्क क्लीनर सेमी-ऑटो सिस्टम

विश्वसनीय और लागत प्रभावी प्रणाली एक सिद्ध दबाव डी-आयनीकृत पानी या परमाणु धुंध नोजल का उपयोग करती है।

प्रभावी सुखाने की तकनीक उच्च स्पिन गति और नाइट्रोजन सहायता का उपयोग करती है

मुखौटा वर्ग आकार 5x5", 7x7" और 9x9" (कांच)

पीसी का उपयोग कर आनुवंशिक तंत्रिका-नेटवर्किंग प्रणाली

विशेष हार्डवेयर के साथ सॉफ्टवेयर सुविधा में वृद्धि उच्च प्रक्रिया प्रदर्शन देती है