Sistem SEMI-AUTO pembersih Photo-Mask berprestasi tinggi

Sistem yang boleh dipercayai dan menjimatkan penggunaan menggunakan Tekanan De-ionized Water atau Atomizing Mist Nozzle yang terbukti.

Teknik Pengeringan yang berkesan menggunakan High Spin Speeds dan Nitrogen Assist

Topeng berukuran 5x5 ", 7x7" & 9x9 "(Kaca)

Sistem rangkaian saraf genetik menggunakan PC

Peningkatan ciri perisian dengan perkakasan khusus memberikan prestasi proses yang tinggi